电磁加速等离子体喷涂技术的原理分析

刘静静 刘宗德

刘静静, 刘宗德. 电磁加速等离子体喷涂技术的原理分析[J]. 爆炸与冲击, 2008, 28(1): 23-27. doi: 10.11883/1001-1455(2008)01-0023-05
引用本文: 刘静静, 刘宗德. 电磁加速等离子体喷涂技术的原理分析[J]. 爆炸与冲击, 2008, 28(1): 23-27. doi: 10.11883/1001-1455(2008)01-0023-05
LIU Jing-jing, LIU Zong-de. Theoretical analysis of the electromagnetically accelerated plasma spraying[J]. Explosion And Shock Waves, 2008, 28(1): 23-27. doi: 10.11883/1001-1455(2008)01-0023-05
Citation: LIU Jing-jing, LIU Zong-de. Theoretical analysis of the electromagnetically accelerated plasma spraying[J]. Explosion And Shock Waves, 2008, 28(1): 23-27. doi: 10.11883/1001-1455(2008)01-0023-05

电磁加速等离子体喷涂技术的原理分析

doi: 10.11883/1001-1455(2008)01-0023-05

Theoretical analysis of the electromagnetically accelerated plasma spraying

  • 摘要: 对自行研制的电磁加速等离子体喷涂技术(Electromagnetically accelerated plasma spraying,EMAPS)从原理上进行了分析,建立了等离子体的运动方程,得到了脉冲电流作用下等离子体上任一点的磁感应强度的计算公式和等离子体及它所压缩周围空气的速度表达式;并分析了粉末粒子与冲击波的相互作用,得到了粉末粒子的喷涂速度与喷枪长度、粉末粒子直径以及电流强度之间的关系;同时还对喷枪的长度进行了设计。
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  • 刊出日期:  2008-01-25

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